Melindungi pemancar tekanan pembezaan daripada media proses yang menghakis atau melelas adalah penting untuk memastikan jangka hayat dan ketepatannya. Berikut ialah beberapa kaedah untuk mencapai perlindungan ini:
Pengedap Diafragma (Kedap Kimia): Pengedap diafragma mengasingkan pemancar tekanan daripada sentuhan langsung dengan media proses dengan menggunakan diafragma fleksibel yang diperbuat daripada bahan yang tahan kakisan dan lelasan, seperti PTFE atau Tantalum. Diafragma diisi dengan cecair pemindahan (cth., minyak silikon atau gliserin) yang menghantar tekanan proses ke sensor. Pengedap ini melindungi pemancar daripada keadaan yang teruk, memastikan integriti pengukuran, dan memudahkan penyelenggaraan dengan membenarkan pembersihan dan penggantian diafragma yang lebih mudah tanpa mengganggu pemancar. Pengedap diafragma amat berguna dalam aplikasi yang melibatkan bahan kimia yang sangat menghakis, buburan atau media dengan bahan zarah.
Salutan: Salutan pelindung memberikan penghalang tambahan kepada bahan asas bahagian basah pemancar. Salutan PTFE (Teflon) digunakan secara meluas untuk rintangan kimia sterling dan sifat tidak melekat, yang menghalang pembentukan dan memudahkan pembersihan. Salutan seramik menawarkan kekerasan menaik dan rintangan lelasan, menjadikannya sesuai untuk aplikasi dengan zarah kasar. Penggunaan salutan ini harus dilakukan dengan ketepatan untuk memastikan litupan dan lekatan seragam. Pemeriksaan berkala adalah perlu untuk mengesan sebarang haus atau kerosakan pada salutan dan untuk memohon semula apabila perlu.
Sistem Pembersihan: Sistem pembersihan melibatkan pembilasan berterusan atau terputus-putus pada garisan penderiaan dengan cecair lengai atau tidak menghakis, seperti nitrogen atau udara bersih. Ini menghalang media proses daripada menghubungi pemancar secara langsung, dengan itu melindunginya daripada kakisan dan lelasan. Sistem pembersihan adalah penting dalam aplikasi yang media terdedah kepada penghabluran, pempolimeran atau pemendapan, yang boleh menyekat garisan penderiaan. Cecair pembersihan mesti serasi dengan kedua-dua media proses dan pemancar untuk mengelakkan pencemaran atau gangguan dengan pengukuran. Reka bentuk dan penyelenggaraan sistem pembersihan yang betul adalah penting untuk memastikan operasi yang berkesan.
Penapisan: Memasang penapis atau penapis di hulu penghantar tekanan pembezaan membantu mengeluarkan zarah dan bahan kasar daripada media proses. Penapis dengan saiz mesh yang sesuai untuk aplikasi khusus boleh menghalang kerosakan pada komponen sensitif pemancar. Untuk media yang sangat kasar, pertimbangkan untuk menggunakan penapis logam tersinter atau pemisah siklon yang boleh mengendalikan beban zarah yang tinggi. Penyelenggaraan tetap dan penggantian elemen penapis adalah perlu untuk mengekalkan kecekapan penapisan dan mengelakkan penurunan tekanan atau tersumbat, yang boleh menjejaskan ketepatan pengukuran.
Pemasangan Jauh: Pemasangan jauh melibatkan kedudukan pemancar tekanan berbeza dari persekitaran proses yang keras menggunakan tiub kapilari yang diisi dengan bendalir lengai. Persediaan ini membolehkan pemancar ditempatkan di lokasi yang lebih mudah diakses dan kurang agresif, mengurangkan risiko kerosakan daripada media yang menghakis atau melelas. Tiub kapilari menghantar tekanan dari proses ke pemancar dengan tepat. Pemilihan bahan dan cecair tiub kapilari yang betul adalah penting untuk memastikan keserasian dengan keadaan proses dan untuk mengekalkan ketepatan pengukuran. Pemeriksaan dan penyelenggaraan berkala bagi tiub kapilari adalah perlu untuk memastikan ia kekal bebas daripada kebocoran dan penyumbatan.
PB8400 jenis kalis letupan yang selamat secara intrinsik
